Российский институт прикладной физики РАН создает литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам

Сможет ли Россия производить собственные 7-нм процессоры? Институт прикладной физики РАН разработал первый отечественный литограф для производства микроэлектроники с использованием современных промышленных процессов.

Российский институт прикладной физики РАН создает литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам

“Альфа-машина” должна появиться в 2024 году.Институт прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) разрабатывает первый в стране литограф для производства микроэлектроники с использованием современных технологических процессов.

Сможет ли Россия производить собственные 7-нанометровые процессоры? Институт прикладной физики РАН разрабатывает первый в стране литограф для производства микроэлектроники с использованием современных технологических процессов.И вот уже создана демонстрационная машина, которую разработчики называют “опытным образцом”. Эта машина формирует отдельные изображения на подложке с разрешением до 7 нм. В настоящее время Россия может работать с микроструктурами размером более 65 нанометров (в основном 90 нанометров и выше) в промышленных масштабах. Тем не менее, называть это серьезным прорывом пока рановато, поскольку до появления полномасштабного промышленного устройства потребуется более шести лет и три этапа разработки.

Создание “альфа-машины” должно быть завершено в 2024 году. После этого времени машина будет запущена и рассчитана на полный цикл работы. Однако на данном этапе упор делается не на скорость или разрешение, а на полную реализацию всех систем. Тем не менее, это все равно должно быть достаточно привлекательным развитием для инвесторов и завода, особенно учитывая конкурентоспособность стоимости самого завода и его обслуживания.

На втором этапе “бета-машина” будет представлена в 2026 году. Системы будут усовершенствованы и усложнены, разрешение и производительность увеличатся, а многие операции будут роботизированы. Эту машину уже можно будет использовать для крупномасштабного производства, и она будет делать это в дальнейшем. На данном этапе важно доработать систему, внедрив ее в реальный производственный процесс и “подтянув” соответствующее оборудование на других этапах производства.

Наконец, на третьем этапе (2026-2028 гг.) российские литографы будут иметь более мощные источники излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, а также будут работать быстро и точно.Сможет ли Россия производить собственные 7-нанометровые процессоры? Институт прикладной физики Российской академии наук строит первый отечественный литограф для производства микроэлектроники с использованием современных промышленных процессов.

Российский институт прикладной физики РАН создает литограф для производства микроэлектроники по современным техпроцессам

Несмотря на то, что отечественный 7-нанометровый процесс будет освоен не скоро, работа тянет на технологическую революцию – литографического производства с советских времен в России нет, а нынешний уровень 65-90 нм был достигнут после приобретения устаревшего зарубежного оборудования в конце 2000-х годов. В данном случае речь идет о важности разработки собственных и, главное, использования оригинальных технологий.

Компания ASML, мировой лидер в области литографии, использует оборудование для EUV-литографии уже около 20 лет. Эксперты отмечают, что помимо сложности технологии, используемые источники ультрафиолетового излучения имеют большие размеры.

За рубежом фотолитография предназначена для сверхвысокосерийного производства. В России же целью является не завоевание мирового рынка, а удовлетворение в первую очередь потребностей внутреннего рынка. Именно поэтому в российских проектах так важно качество. Российские физики уже создали технологический демонстратор, использующий другой источник излучения – рентгеновские лучи. При этом наш источник излучения в несколько раз компактнее и чище в эксплуатации, что существенно влияет на стоимость.

Размеры и сложность оборудования. оптика демонстратора, собранного в ИФП РАН, уже сейчас лучше, чем все аналогичные изделия в мире. Кроме того, при той же производительности, что и оборудование источника ASML, российское оборудование в 1,5-2 раза эффективнее оборудования мировых лидеров.

Popular