Сможет ли Россия производить собственные 7-нм процессоры? Институт прикладной физики РАН разработал первый отечественный литограф для производства микроэлектроники с использованием современных промышленных процессов.
«Альфа-машина» должна появиться в 2024 году.Институт прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) разрабатывает первый в стране литограф для производства микроэлектроники с использованием современных технологических процессов.
Сможет ли Россия производить собственные 7-нанометровые процессоры? Институт прикладной физики РАН разрабатывает первый в стране литограф для производства микроэлектроники с использованием современных технологических процессов.И вот уже создана демонстрационная машина, которую разработчики называют «опытным образцом». Эта машина формирует отдельные изображения на подложке с разрешением до 7 нм. В настоящее время Россия может работать с микроструктурами размером более 65 нанометров (в основном 90 нанометров и выше) в промышленных масштабах. Тем не менее, называть это серьезным прорывом пока рановато, поскольку до появления полномасштабного промышленного устройства потребуется более шести лет и три этапа разработки.
Создание «альфа-машины» должно быть завершено в 2024 году. После этого времени машина будет запущена и рассчитана на полный цикл работы. Однако на данном этапе упор делается не на скорость или разрешение, а на полную реализацию всех систем. Тем не менее, это все равно должно быть достаточно привлекательным развитием для инвесторов и завода, особенно учитывая конкурентоспособность стоимости самого завода и его обслуживания.
На втором этапе «бета-машина» будет представлена в 2026 году. Системы будут усовершенствованы и усложнены, разрешение и производительность увеличатся, а многие операции будут роботизированы. Эту машину уже можно будет использовать для крупномасштабного производства, и она будет делать это в дальнейшем. На данном этапе важно доработать систему, внедрив ее в реальный производственный процесс и «подтянув» соответствующее оборудование на других этапах производства.
Наконец, на третьем этапе (2026-2028 гг.) российские литографы будут иметь более мощные источники излучения, улучшенные системы позиционирования и подачи, а также будут работать быстро и точно.Сможет ли Россия производить собственные 7-нанометровые процессоры? Институт прикладной физики Российской академии наук строит первый отечественный литограф для производства микроэлектроники с использованием современных промышленных процессов.
Несмотря на то, что отечественный 7-нанометровый процесс будет освоен не скоро, работа тянет на технологическую революцию — литографического производства с советских времен в России нет, а нынешний уровень 65-90 нм был достигнут после приобретения устаревшего зарубежного оборудования в конце 2000-х годов. В данном случае речь идет о важности разработки собственных и, главное, использования оригинальных технологий.
Компания ASML, мировой лидер в области литографии, использует оборудование для EUV-литографии уже около 20 лет. Эксперты отмечают, что помимо сложности технологии, используемые источники ультрафиолетового излучения имеют большие размеры.
За рубежом фотолитография предназначена для сверхвысокосерийного производства. В России же целью является не завоевание мирового рынка, а удовлетворение в первую очередь потребностей внутреннего рынка. Именно поэтому в российских проектах так важно качество. Российские физики уже создали технологический демонстратор, использующий другой источник излучения — рентгеновские лучи. При этом наш источник излучения в несколько раз компактнее и чище в эксплуатации, что существенно влияет на стоимость.
